恒奧德真空鍍膜機操作使用步驟 

真空鍍膜機主要類(lèi)需要在較真空度下行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

簡(jiǎn)介
需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜

使用步驟
電控柜操作
1. 開(kāi)水泵、氣源。

2. 開(kāi)總電源。

3. 開(kāi)維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再入下步操作。約需5分鐘。

4. 開(kāi)機械泵、預抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、并啟動(dòng)，真空計開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

5. 觀(guān)察渦輪分子泵讀數到達250以后，關(guān)預抽，開(kāi)前泵和真空閥繼續抽真空，抽真空到達定程度后才能開(kāi)右邊的真空表頭，觀(guān)察真空度。真空到達2×10-3以后才能打開(kāi)電子槍電源。

DEF-6B操作
1. 總電源。

2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān)，延時(shí)、電源及保護燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護燈滅，若后門(mén)未關(guān)好或水繼電器有故障，保護燈會(huì )常亮。

3. 開(kāi)壓，壓會(huì )達到10KV以上，調節束可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電1.2A，偏轉電在1~1.7之間擺動(dòng)。

關(guān)機順序
1. 關(guān)真空表頭、關(guān)分子泵。

2. 待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)閥、前、機械泵，這期間約需40分鐘。

3. 到50以下時(shí)，再關(guān)維持泵。